外部からの利用実績(随時更新)


※共同研究者または賛助会員の利用も含みます

2016/1~3

  • DMD露光装置 4回
  • パターンジェネレータ 1回
  • 両面マスクアライナ 2回 
  • 汎用ICP-RIE装置(メタルもOK) 1回
  • Deep-RIE装置(Siのみ) 1回

2015/10~12
  • DMD露光装置 20回 
  • 共焦点顕微鏡 2回
  • 汎用ICP-RIE装置(メタルもOK) 10回
  • Deep-RIE装置(Siのみ) 1回
  • 両面マスクアライナ 1回
  • 原子間力顕微鏡 5回
  • クロスセクションポリッシャ 2回
  • パターンジェネレータ 3回
  • 酸化/拡散炉 1回
  • PZTスパッタ装置 1回
  • ダイシングマシン 1回 

2015/7~9
  • DMD描画装置 6回
  • パターンジェネレータ 4回
  • DMD露光装置 7回
  • 両面マスクアライナ 2回
  • 汎用ICP-RIE装置(メタルもOK) 1回

2015/4~6
  • 汎用ICP-RIE装置(メタルもOK) 2回
  • DMD描画装置 2回