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2013年 第74回応用物理学会秋季学術講演会The 74th JSAP Autumn Meeting, 2013

学会開催情報 Meeting information

  • 開催場所: 同志社大学京田辺キャンパス(京都府京田辺市多々羅都谷1-3)
  • 開催期間: 2013年9月16日(月) 〜 20日(金)
  • 予稿発行日:2013年9月6日(金)
  • 学会HP:https://confit.atlas.jp/guide/event/jsap2013a/top
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[19a-A4-4] SrO/Si構造のアニール処理によって作製したSrSiOx層の化学組成

  • 発表者:谷脇将太1,豊島祐樹1,堀田育志1, 3, 吉田晴彦1, 3,新船幸二1, 3,小椋厚志2, 3,佐藤真一1, 3
  • 所属:兵庫県立大1,明大2,JST-CREST3
  • 電界効果パッシベーション、SrSiOx、結晶シリコン太陽電池
  • セッション情報:16. 非晶質・微結晶, 16.3 シリコン系太陽電池
  • セッション種別:一般セッション(口頭講演)
  • 発表日時:2013年9月19日(木) 9:45 AM 〜 10:00 AM
  • 場所:A4 (TC1 2F-216)

[19a-C7-7] XPSを用いたHfO2/SiおよびY2O3/Siアニール界面の構造解析

  • 発表者:豊島祐樹1,谷脇将太1,堀田育志1, 3, 吉田晴彦1, 3,新船幸二1, 3,小椋厚志2, 3,佐藤真一1, 3
  • 所属:兵庫県立大1,明大工2,JST-CREST3
  • キーワード:界面、High-k、シリコン
  • セッション情報:6. 薄膜, 6.4 薄膜新材料
  • セッション種別:一般セッション(口頭講演)
  • 発表日時:2013年9月19日(木) 10:30 AM 〜 10:45 AM
  • 場所:C7 (TC3 1F-117)

[19a-C7-8] Si基板上に堆積したSTO薄膜へのポストアニールの効果

  • 発表者:今中淳弘,佐々木翼,堀田育志,佐藤真一
  • 所属:兵庫県立大学
  • キーワード:Si、Sr、バッファー層
  • セッション情報:6. 薄膜, 6.4 薄膜新材料
  • セッション種別:一般セッション(口頭講演)
  • 発表日時:2013年9月19日(木) 10:45 AM 〜 11:00 AM
  • 場所:C7 (TC3 1F-117)
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