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担当 科目 |
大学院 | 基礎レーザー光学、電力エネルギー工学講究 II 、電気工学セミナー II 、 電気系工学特別実験C |
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学部 | 基礎電気電子計測、制御システムI、電磁気学演習、電気系実験 II | |
専門分野 | 高出力レーザー工学、高速液滴発生、パルスプラズマ発生 | |
研究内容 | 溶融スズ金属液滴など液滴発生とその応用、ダイヤモンドライクカーボン薄膜などの成膜、レーザーを用いた表面検査 | |
所属学会 |
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最近の研究業績 | 1. "溶融錫液滴ターゲットの発生と飛行方向の制御" 藤原閲夫, レーザー研究 36, No.11 (2008), 731-735. 2. "高速金属液滴発生技術" 藤原閲夫, 電気学会誌 128, No.10 (2008), 676-677. 3. "New generator for producing uniform droplet streams" E.Fujiwara, H.Sugishita, H.Nishimura, Jpn.J.Appl. Phys. 47, (2008), 1800-1802. 4. "Effect of a hard supra-thick interlayer on adhesion of DLC film prepared with PBIID process", T.Utsumi, Y.Oka, E.Fujiwara and M.Yatsuzuka, Nuclear Inst. and Methods in Physics Research, B257 (1), (2007), 706-709. 5. "Development of Tin Droplet Target for 13.5nm Lithography" E.Fujiwara, H.Sugishita, Y.Okabe, M.Yatsuzuka, H.Nishimura, Plasma and Fusion Research, Rapid communications 1, (2006), 055-1-3. 6. "Optical Emission Measurements in Diamond Like Carbon Deposition by Plasma Base Ion Implantation and Deposition (PBIID) System", E.Fujiwara, M.Kirinuki, K.Nishikawa, M.Onoi, Y.Oka, K. Azuma, and M. Yatsuzuka, High Temperature Society of Japan, Smart Processing Technology, 1, (2006), 65 -68. |