氏名 松尾 直人
フリガナ マツオ ナオト
所属 大学院 物質系工学専攻
マテリアル・物性部門
学部 応用物質科学科
マテリアル・物性コース
研究
グループ
半導体材料・デバイス学研究グループ
連絡 TEL 079-267-4907
FAX 079-267-4907
役職 教授
学位 博士(工学)
顔写真

担当
科目
大学院 半導体物性工学、ナノ加工・計測学
加工システム学講究、他
学部 力学1、固体物理1、塑性力学
専門分野 半導体物性、デバイス、結晶成長、ナノ加工
研究内容 フラットパネルディスプレー上における
ナノ寸法素子、加工
所属学会 電子情報通信学会、応用物理学会、日本金属学会、IEEE
最近の研究業績 レーザ結晶化機構の解明
量子力学的効果を応用した薄膜トランジスタの提案





氏名 部家 彰
フリガナ ヘヤ アキラ
所属 大学院 物質系工学専攻
マテリアル・物性部門 
学部 応用物質科学科
マテリアル・物性コース
研究
グループ
半導体材料・デバイス学研究グループ
連絡 TEL 079-267-4909
FAX 079-267-4885
役職 准教授
学位 博士(材料科学)
顔写真

担当
科目
大学院 半導体薄膜工学
学部 電磁気学、学生実験T、U、W、X
専門分野 半導体物性、薄膜形成、表面処理
研究内容 原子状水素を用いた新規表面処理法の開発
レーザもしくは放射光による多結晶シリコン膜の形成
所属学会 応用物理学会、電子情報通信学会、表面技術協会
最近の研究業績
  1. 部家彰、「フレキシブル電子デバイスの製造と応用 6.2プラスチック基板上へのSiN系水蒸気バリア膜の形成」、CMC出版 (2006).
  2. A. Heya, N. Matsuo, H. Matsumura and N. Kawamoto, “Effect of Hydrogen on Secondary Grain Growth of Polycrystalline Silicon Films by Excimer Laser Annealing in Low-Temperature Process”, Jpn. J. Appl. Phys, 45, 6908-6910 (2006).
  3. 部家彰、「ドライプロセスによるディスプレイ・光学部材における具体的な薄膜製造コーティング技術 4.5 有機ELの保護膜形成技術」、情報機構 (2007).