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教員詳細

盛谷 浩右 [もりたに こうすけ]
准教授|博士(理学)
メールアドレス moritani@eng.u-hyogo.ac.jp
盛谷 浩右

研究テーマ:ビームに励起される表面反応過程に関する研究、新しい表面分析技術の開発

 物質のもっとも外側である「表面」は、物質が他の物質と最初に接触する場所であり、外界からやってくる物質との反応がまず最初に始まる場所です。 また、材料の化学的活性、接着性、耐蝕性、摩擦、生体適合性等々の特性や機能は、表面数原子層の非常に浅い領域の化学構造によって決まります。そのため、新しい高機能な素材やそれを利用した製品を開発するためには、表面で起きる反応を理解し制御すること、そして表面の化学状態を分析することが重要です。
 本研究グループでは、様々なビームを表面に照射することにより励起される表面化学反応を理解し、それを応用して新しい表面分析技術を開発することを目的に研究を行っています。ビームとは、一方向に並進する粒子や波の束で、電子ビーム、イオンビーム、分子ビーム…等いろいろな種類があります。最近本グループで主に利用しているガスクラスターイオンビーム(GCIB)は、数百から数千個の気体分子が分子間力により凝集した巨大な塊(クラスター)をイオン化し、ビームにしたものです。GCIBは従来のイオンビームとは異なり、単位電荷あたり数百から数千個の原子・分子を輸送することができ、粒子を超高密度かつ低エネルギーで照射することができます。
 現在、GCIBのこのような特徴を、新たな表面計測技術や表面加工プロセスに応用していくことを目指し研究を行っています。写真は、これまでに開発してきた、GCIBをプローブとした二次イオン質量分析(SIMS)とX線光電子分光(XPS)を組み合わせた表面分析装置です。表面の極浅い領域に存在する分子を高感度で測定することができます。

  • ガスクラスターSIMS, XPS表面分析装置

    ガスクラスターSIMS, XPS表面分析装置