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教員詳細

原田 哲男 [はらだ てつを]
助教|博士(工学)
メールアドレス harada@lasti.u-hyogo.ac.jp
原田 哲男

研究テーマ:EUVリソグラフィー応用、EUVマスク検査、軟X線光工学

 放射光施設ニュースバルにおいて極端紫外線(EUV)リソグラフィー技術を開発している。
 半導体の微細パターンをシリコンウェハに焼き付ける技術がリソグラフィー技術です。大容量、高速なCPUやフラッシュメモリを作製するには、より微細なパターンを焼き付ける技術が必要となる。これまで紫外線(ArFレーザー 波長193 nm)を利用した技術が用いられてきたが、我々は波長13.5 nmのEUVを利用したリソグラフィー技術を開発している。EUVはX線に近い光で、波長が従来と比べて1/10以下となり、10 nmより細かな回路パターンが転写できます。EUVリソグラフィー自体は、オランダASML社が主体となり、製品化を進めており、量産目前となっている。我々は、回路パターンの検査装置や感光剤の評価装置の開発をしている。写真1に示すのは、国家プロジェクトで作製した検査装置(マイクロ・コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡)です。写真2に示すように100 nm以下の欠陥などを、3次元形状として観察することができる。
 また、軟X線を使った計測技術全般の開発をニュースバルにて続けている。反射率計測や透過率計測、散乱計測、大型素子の計測、軟X線吸収分光による材料評価など、幅広く開発しているので、ご相談ください。

  • コヒーレントEUV顕微鏡の概要図

    コヒーレントEUV顕微鏡の概要図

  • 200 nm幅の欠陥の観察画像、色が3次元形状を表している。

    200 nm幅の欠陥の観察画像、色が3次元形状を表している。