外部からの利用実績（随時更新）
※共同研究者または賛助会員の利用も含みます
2016/1~3
- DMD露光装置 4回
- パターンジェネレータ 1回
- 両面マスクアライナ 2回
- 汎用ICP-RIE装置（メタルもOK） 1回
- Deep-RIE装置（Siのみ） 1回
2015/10~12
- DMD露光装置 20回
- 共焦点顕微鏡 2回
- 汎用ICP-RIE装置（メタルもOK） 10回
- Deep-RIE装置（Siのみ） 1回
- 両面マスクアライナ 1回
- 原子間力顕微鏡 5回
- クロスセクションポリッシャ 2回
- パターンジェネレータ 3回
- 酸化／拡散炉 1回
- PZTスパッタ装置 1回
- ダイシングマシン 1回
2015/7~9
- DMD描画装置 6回
- パターンジェネレータ 4回
- DMD露光装置 7回
- 両面マスクアライナ 2回
- 汎用ICP-RIE装置（メタルもOK） 1回
2015/4~6
- 汎用ICP-RIE装置（メタルもOK） 2回
- DMD描画装置 2回