早勢 直紀Naoki Hayase

助教｜修士（工学）

[mail] hayase@lasti.u-hyogo.ac.jp

高度産業科学技術研究所
放射光ナノ工学分野

学生実験を主に担当します。実験を通して講義で学んだ内容の理解を深められるように心がけています。
研究では、ナノスケール成膜技術を用いた軟X線ミラー等の光学素子の設計とニュースバル放射光施設を用いた評価を行い、次世代露光技術(半導体微細加工技術)の開発を行っています。

Beyond EUV露光技術の開発

学べる内容・身に付くスキル

光学計算からナノスケールの成膜と加工、放射光測定まで一貫した評価方法を習得できます。

現在の最先端半導体デバイス製造ではEUV(13.5nmの軟X線)が利用されていますが、更なる微細化に向けてBeyond EUV(BEUV, ~6.7nm)が提案されています。BEUV露光技術の確立に向け、BEUVミラーやフォトマスク(回路を転写するための原版)を構成する多層膜設計、対応する露光方式を研究しています。課題であるBEUV反射率の向上、光散乱の低減などの物理的課題を解決し、BEUV露光を世界に先駆けて実現することを目指しています。