講義では教科書の説明だけでなく、なるべく日々の研究で自分が感じたことや面白いと思ったことを講義内容に関連付けて紹介しています。研究はニュースバル放射光施設にて半導体微細加工（ＥＵＶリソグラフィー）用の材料評価装置を開発しています。企業との共同研究が多く、半導体加工の現場で使われる先端材料の開発ですので、企業の本気の開発に触れることができます。
ニュースバル放射光施設という巨大装置を利用し、最先端のＥＵＶリソグラフィー用の多層膜反射鏡や透過膜などの精密な測定法を学ぶことができます。
半導体回路の描画装置（リソグラフィー装置）で実際に使うための、光学素子の評価技術を開発します。高性能な素子開発には評価が重要で、ＥＵＶ反射率や透過率だけでなく、高強度ＥＵＶに対する照射耐性、散乱特性なども評価します。高い反射率や透過率でかつ耐久性のある素子があれば、半導体製造の歩留まりを向上することができます。安定してＸ線を供給可能な放射光ならではの実験で、企業研究者と交流しながら研究を進めます。
ニュースバル放射光施設にて、微細パターン転写用の感光材であるフォトレジストを評価し、レジストプロセスや電子顕微鏡による評価などのレジストプロセスを幅広く学べます。
半導体製造装置のシリコンウェハに塗布する感光材であるフォトレジストの評価装置を開発します。より微細なパターンを実現して半導体性能を向上できるかどうかはフォトレジストの性能次第で、性能向上に欠かせない評価装置を開発します。基本的な特性であるEUV感度だけでなく、15 nm程度の微細パターンによる解像度評価、軟X線によるレジスト中の凝集評価など、放射光特性を最大限に利用してポリマー（有機高分子）という謎に挑みます。