2015年度 (2015/04/01-2016/03/31)

原著論文

  1. Effects of sputtering gas pressure on physical properties of ferroelectric (Bi3.25Nd0.65Eu0.10)Ti3O12 nanoplate films,
    Masafumi Kobune, Tomoyuki Kuriyama, Ryosuke Furotani, Takuya Kugimiya, Satoshi Ueshima, Takeyuki Kikuchi, Hironori Fujisawa, Seiji Nakashima, Masaru Shimizu, Naoki Fukumuro,
    J. Appl. Phys. 54(10), 10NA01 (2015).
    https://doi.org/10.7567/JJAP.54.10NA01

  2. Electrochemical Quartz Crystal Microbalance Study of The Electrodeposition of Platinum,
    Taizo Hagihara, Kazumasa Yaori, Keishiro Iwakura, Naiki Furkumuro, Shinji Yae,
    Electrochim. Acta 176(10), 65-69 (2015).
    https://doi.org/10.1016/j.electacta.2015.06.127

  3. Hydrogen-Induced Superabundant Vacancies in Electrodeposited Fe-C Alloy Films,
    Naoki Fukumuro, Saeka Kojima, Moeko Fujino, Yasunori Mizuta, Toshiaki Maruo, Shinji Yae, Yuh Fukai,
    J. Alloys Compd., 54(10), S404-S407 (2015).
    https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2014.12.093

  4. アルゴンプラズマエッチングを施した単結晶シリコン上に無電解置換析出する白金微粒子の数密度,
    萩原泰三, 藤原良太, 松田貴士, 山川加能, 福室直樹, 八重真治,
    表面技術 67(1), 34-39 (2015).
    https://doi.org/10.4139/sfj.67.34

プロシーディングス

  1. Catalytic Activity of Ru for Metal-Assisted Etching of Si,
    Daisuke Sadakane, Kano Yamakawa, Naoki Fukumuro, Shinji Yae,
    ECS Trans. 69(2), 179-184 (2015).
    https://doi.org/10.1149/06902.0179ecst

  2. Optical Property of Porous Silicon Produced By Metal-Assisted Etching,
    Kano Yamakawa, Susumu Sakamoto, Naoki Fukumuro, Shinji Yae,
    ECS Trans. 69(2), 185-191 (2015).
    https://doi.org/10.1149/06902.0185ecst

  3. Effect of Epitaxial Growth of Gold Nanoparticles on Si Substrates on Adhesion of Electrolessly Deposited Metal Films,
    Naoki Yamada, Hiroyuki Atsushiba, Susumu Sakamoto, Naoki Fukumuro, Shinji Yae,
    ECS Trans. 69(39), 59-63 (2015).
    https://doi.org/10.1149/06939.0059ecst

  4. シリコンウェーハ上への直接無電解めっき,
    八重真治, 山田直輝, 阪本 進, 福室直樹,
    第25回マイクロエレクトロニクスシンポジウム(MES2015)論文集, 63-66 (2015).
    https://doi.org/10.11486/mes.25.0_63

国際会議

  1. Metal-Assisted Etching of Silicon: Activity of Metal Catalysts and Control of Porous Structure,
    Shinji Yae, Naoki Fukumuro, Susumu Sakamoto,
    228th ECS Meeting, Phoenix, U.S.A., October 11-October 19, 2015. (oral)

  2. Catalytic Activity of Ru for Metal-Assisted Etching of Si,
    Daisuke Sadakane, Kano Yamakawa, Naoki Fukumuro, Shinji Yae,
    228th ECS Meeting, Phoenix, U.S.A., October 11-October 19, 2015. (poster)

  3. Effect of Epitaxial Growth of Gold Nanoparticles on Si Substrates on Adhesion of Electrolessly,
    Naoki Yamada, Hiroyuki Atsushiba, Susumu Sakamoto, Naoki Fukumuro, Shinji Yae,
    228th ECS Meeting, Phoenix, U.S.A., October 11-October 19, 2015. (poster)

  4. Optical Property of Porous Silicon Produced By Metal-Assisted Etching,
    Kano Yamakawa, Susumu Sakamoto, Naoki Fukumuro, Shinji Yae, Yae
    228th ECS Meeting, Phoenix, U.S.A., October 11-October 19, 2015. (poster)

  5. Effects of sputtering-gas pressure on physical properties of (Bi3.25Nd0.65Eu0.10)Ti3O12 nanoplates,
    Masafumi Kobune, Tomoyuki Kuriyama, Ryosuke Furotani, Takeyuki Kikuchi, Hironori Fujisawa, Seiji Nakashima, Masaru Shimizu, Naoki Fukumuro,
    The International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem 2015), Honolullu, U.S.A., December 15-December 20, 2015. (oral)

国内学会、研究会等

  1. (Bi3.25Nd0.65Eu0.10)Ti3O12ナノプレートの物性に及ぼすスパッタガス圧の影響,
    栗山知侑, 小舟正文, 釘宮拓也, 上島慧史, 風呂谷亮佑, 西岡 洋, 菊池丈幸, 藤澤浩訓, 中嶋誠二, 清水 勝, 福室直樹,
    第32回強誘電体応用会議(FMA), コープイン京都, 京都市, 2015年5月20日-23日. (口頭)

  2. めっき膜の水素分析とナノ構造解析,
    福室直樹,
    化学工学会関西支部播磨産業懇話会, 姫路・西はりま地場産業センター, 姫路市, 2015年5月21日. (依頼講演)

  3. めっき膜中に共析した水素の挙動解析～水素誘起超多量空孔と構造変化～,
    福室直樹,
    表面技術協会関西支部 平成27年度第1回表面物性研究会, 大阪市立工業研究所, 大阪市,　2015年6月17日. (口頭)

  4. Bi3.25Nd0.65Eu0.10Ti3O12ナノプレートの構造および圧電性に及ぼすスパッタリングガス圧の影響,
    栗山知侑, 小舟正文, 釘宮拓也, 上島慧史, 風呂谷亮佑, 西岡洋, 菊池丈幸, 藤澤浩訓, 中嶋誠二, 清水 勝, 福室直樹,
    応用物理学会関西支部平成27年度第1回講演会, イーグレひめじ, 姫路市, 2015年6月22日. (口頭)

  5. めっき廃液などからの低コスト高効率な貴金属回収技術の開発,
    八重真治, 福室直樹,
    2015年関西表面技術シンポジウム, 大阪鍍金会館, 大阪市, 2015年7月22日. (依頼講演)

  6. エピタキシャル成長した強誘電体ナノプレート薄膜の物性に及ぼすスパッタガス圧の影響,
    風呂谷亮佑, 小舟正文, 栗山知侑, 菊池一樹, 藤田智志, 菊池丈幸, 福室直樹, 藤澤浩訓, 中島誠二, 清水 勝,
    第10回日本セラミックス協会関西支部学術講演会, 京都大学宇治キャンパス, 宇治市, 2015年7月24日. (口頭)

  7. めっきによる金属膜への水素の共析とその挙動,
    八重真治, 福室直樹,
    第71回マテリアルズ・テーラリング研究会, 加藤科学振興会軽井沢研修所, 軽井沢町, 2015年8月6日-9日. (依頼講演)

  8. 銅－ニッケル界面相互拡散に及ぼすニッケル膜中の水素の影響,
    勝田裕貴, 福室直樹, 八重真治,
    第71回マテリアルズ・テーラリング研究会, 加藤科学振興会軽井沢研修所, 軽井沢町, 2015年8月6日-9日. (口頭)

  9. 高圧力下での電解めっきにおける水素共析の評価を目指して,
    山崎貴昭, 福室直樹, 山本拓司, 前田光治, 八重真治,
    第71回マテリアルズ・テーラリング研究会, 加藤科学振興会軽井沢研修所, 軽井沢町, 2015年8月6日-9日. (口頭)

  10. 無電解置換析出によるシリコン上への金のエピタキシャル成長,
    山田直輝, 福室直樹, 八重真治,
    第71回マテリアルズ・テーラリング研究会, 加藤科学振興会軽井沢研修所, 軽井沢町, 2015年8月6日-9日. (口頭)

  11. シリコンウェーハ上への直接無電解めっき,
    八重真治, 山田直輝, 阪本 進, 福室直樹,
    MES2015 第25回マイクロエレクトロニクスシンポジウム, 大阪大学吹田キャンパス, 吹田市, 2015年9月3日-4日. (口頭)

  12. Siの金属援用エッチングにおけるRuの触媒活性,
    定金大介, 山川加能, 福室直樹, 八重真治,
    表面技術協会第132回講演大会, 信州大学長野キャンパス, 長野市, 2015年9月9日-10日. (口頭)

  13. SiC上への無電解めっき膜の形成,
    山田直輝, 定金大介, 福田健二, 阪本 進, 福室直樹, 八重真治,
    表面技術協会第132回講演大会, 信州大学長野キャンパス, 長野市, 2015年9月9日-10日. (口頭)

  14. 電析Ag膜中の水素の挙動に及ぼす浴組成と添加剤の影響,
    岩倉圭之朗, 草別 孝, 福室直樹, 八重真治, 深井 有,
    表面技術協会第132回講演大会, 信州大学長野キャンパス, 長野市, 2015年9月9日-10日. (口頭)

  15. 高圧力下での無電解ニッケル‐リンめっきに関する実験的検討,
    信吉裕太, 山本拓司, 前田光治, 福室直樹, 八重真治, 福井啓介,
    化学工学会第47回秋季大会, 北海道大学, 札幌市, 2015年9月9日-11日. (口頭)

  16. 金ナノ粒子を触媒として無電解めっき膜を形成した単結晶シリコンの界面構造,
    山田直輝, 阪本 進, 福室直樹, 八重真治,
    2015年電気化学秋季大会, 埼玉工業大学, 深谷市, 2015年9月11日-12日. (口頭)

  17. 白金電析の電気化学水晶振動子マイクロバランス(EQCM)による解析,
    八重真治, 福室直樹,
    電気鍍金研究会10月研究例会, 大阪鍍金会館, 大阪市, 2015年10月28日. (口頭)

  18. 金属援用エッチングを用いて形成したシリコンホールアレイの光学特性,
    山川加能, 阪本 進, 福室直樹, 八重真治,
    第32回金属のアノード酸化皮膜の機能化部会（ARS）姫路コンファレンス, ニューサンピア姫路ゆめさき, 姫路市, 2015年11月5日. (ポスター)

  19. Ruを用いたSiの金属援用エッチング,
    定金大介, 山川加能, 福室直樹, 八重真治,
    第32回金属のアノード酸化皮膜の機能化部会（ARS）姫路コンファレンス, ニューサンピア姫路ゆめさき, 姫路市, 2015年11月5日. (ポスター)

  20. 無電解置換析出におけるSiの局部アノード溶解,
    木戸 茜, 岸野りさ, 福室直樹, 八重真治,
    第32回金属のアノード酸化皮膜の機能化部会（ARS）姫路コンファレンス, ニューサンピア姫路ゆめさき, 姫路市, 2015年11月5日. (ポスター)

  21. めっき膜中に共析した水素の挙動と構造への影響,
    福室直樹,
    表面技術協会・めっき部会11月例会, HORIBA東京分析センター, 千代田区, 2015年11月20日. (依頼講演)

  22. 鉄-炭素合金電析膜の水素共析に及ぼす浴組成の影響,
    川崎真央, 藤野萌子, 福室直樹, 八重真治, 深井 有,
    第17回関西表面技術フォーラム, 甲南大学ポートアイランドキャンパス, 神戸市, 2015年11月26日-27日. (口頭)

  23. パラジウム電析膜中の水素の存在状態と膜の構造変化,
    香西祐佳, 山田麻由, 福室直樹, 八重真治, 深井 有,
    第17回関西表面技術フォーラム, 甲南大学ポートアイランドキャンパス, 神戸市, 2015年11月26日-27日. (口頭)

  24. 塩基性溶液を用いたシリコン上への無電解置換析出による貴金属回収,
    小神優里奈, 福田健二, 八重真治, 福室直樹,
    第17回関西表面技術フォーラム, 甲南大学ポートアイランドキャンパス, 神戸市, 2015年11月26日-27日. (口頭)

  25. 電析ニッケル／銅界面の相互拡散に及ぼす水素の影響,
    勝田裕貴, 福室直樹, 八重真治, 深井 有,
    第17回関西表面技術フォーラム, 甲南大学ポートアイランドキャンパス, 神戸市, 2015年11月26日-27日. (ポスター)

  26. コバルト／白金二層膜に共析する水素の存在状態と構造変化,
    岡本 真, 福室直樹, 八重真治, 深井 有,
    第17回関西表面技術フォーラム, 甲南大学ポートアイランドキャンパス, 神戸市, 2015年11月26日-27日. (ポスター)

  27. めっきにおける水素誘起超多量空孔の生成とその効果,
    福室直樹, 八重真治, 深井 有,
    日本金属学会中国四国支部研究会, 岡山理科大学, 岡山市, 2015年12月4日. (依頼講演)

  28. 白金電析に及ぼす吸着水素の影響,
    横山綾乃, 萩原泰三, 唐津晋也, 福室直樹, 八重真治,
    兵庫県立大学Cat-on-Cat 新規表面反応研究センターシンポジウム2015, 姫路・西はりま地場産業センター, 姫路市, 2015年12月10日. (ポスター)

  29. シリコン上への金ナノ粒子触媒のエピタキシャル成長,
    山田直輝, 阪本 進, 福室直樹, 八重真治,
    兵庫県立大学Cat-on-Cat 新規表面反応研究センターシンポジウム2015, 姫路・西はりま地場産業センター, 姫路市, 2015年12月10日. (ポスター)

  30. 高静水圧下で電解析出する金属への水素共析,
    山崎貴昭, 福室直樹, 山本拓司, 前田光治, 八重真治,
    2015年度第3回関西電気化学研究会, 同志社大学今出川キャンパス, 京都市, 2015年12月12日. (口頭)

  31. 高圧力下における回分式無電解Ni-Pめっき操作,
    信吉裕太, 山本拓司, 伊藤和宏, 福室直樹, 八重真治, 前田光治,
    化学工学会第81年会, 関西大学千里山キャンパス, 吹田市, 2016年3月13日. (口頭)

  32. MOCVD法によるマルチフェロイックFe3O4/BNEuT複合体薄膜の成長及び諸特性,
    小舟正文, 栗山知侑, 風呂谷亮佑, 藤田智志, 菊池一樹, 菊池丈幸, 藤澤浩訓, 清水 勝, 福室直樹,
    日本セラミックス協会2016年年会, 早稲田大学西早稲田キャンパス, 新宿区, 2016年3月13日-16日. (口頭)

  33. 銀電析における水素共析と微細構造に及ぼす添加剤の影響,
    福室直樹, 岩倉圭之朗, 草別 孝, 深井 有, 八重真治,
    表面技術協会第133回講演大会, 早稲田大学西早稲田キャンパス, 新宿区, 2016年3月22日-23日. (口頭)

  34. シリコン粉末上への無電解置換析出を利用した貴金属回収,
    八重真治, 小神優里奈, 福田健二,
    表面技術協会第133回講演大会, 早稲田大学西早稲田キャンパス, 新宿区, 2016年3月22日-23日. (口頭)

  35. 多孔質シリコン層を利用した光反射防止による太陽電池の高効率化,
    八重真治, 山川加能, 阪本 進,
    表面技術協会第133回講演大会, 早稲田大学西早稲田キャンパス, 新宿区, 2016年3月22日-23日. (口頭)

  36. シリコンおよびシリコンカーバイトへの無電解めっき,
    八重真治, 福室直樹,
    日本金属学会第158回講演大会2016年春期(第158回)講演大会, 東京理科大学葛飾キャンパス, 葛飾区, 2016年3月23日-25日. (口頭)

  37. Pd電析膜からの水素脱離に伴う構造変化,
    福室直樹, 香西祐佳, 山田麻由, 深井 有, 八重真治,
    日本金属学会第158回講演大会2016年春期(第158回)講演大会, 東京理科大学葛飾キャンパス, 葛飾区, 2016年3月23日-25日. (口頭)

  38. 白金電析のEQCM解析-水素吸着の影響,
    八重真治, 萩原泰三, 横山綾乃, 岡本 真, 福室直樹,
    電気化学会第83回大会, 大阪大学吹田キャンパス, 吹田市, 2016年3月29日-31日. (口頭)