研究
RESEARCH

研究内容

幅広い材料(金属・半導体など)の表面処理・表面物性・表面分析に関する研究を行っています。
電解および無電解めっきによる機能性薄膜や貴金属ナノ粒子、微細構造の作製とその応用(造る)、
材料の成分分析や構造解析、物性評価(調べる)、
構造形成や物性発現の機構解明(知る)、
さらに新規分析技術の開発を行っています。


最近の研究

・新規高濃度水素化物PdHxの電気化学的合成
・電気化学的水素透過法によるめっき析出過程の水素分析
・銅めっき膜中の水素の存在状態解析
・表面処理によってアルミニウム合金に侵入した水素の解析
・高静水圧下の電気化学反応の解析
・払拭法電解研磨技術の確立とステンレス鋼の表面特性向上
・シリコン上への貴金属ナノ粒子の無電解置換析出
・貴金属ナノ粒子を触媒としたシリコン上への高密着めっき膜の形成
・シリコン粉末を用いた都市鉱山からの貴金属回収
・金属援用エッチングによるシリコン表面の微細加工
・GaAs基板上への無電解Ni-Pめっきと熱処理による界面反応
・レーザープラズマ生成機構の解明とその場元素分析への応用
・多孔質シリコンを利用した微量溶液の高感度レーザー分析


研究理念

自ら造る、自ら調べる、自ら知る(理解する)を楽しむ
研究開発による人類の叡智(学術)への寄与
技術開発(実用化)による人類の幸福への寄与

研究室紹介動画