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大学院工学研究科/教員一覧

氏名 井上　尚三
フリガナ イノウエ　ショウゾウ
所属 大学院

機械系工学専攻　/　機械知能工学部門
学部 機械システム工学科　/　機械知能工学コース
研究グループ 材料知能設計研究グループ
連絡 TEL 079-267-4981
FAX 079-267-4981
役職 教授
学位 工学博士
顔写真

担当
科目		 大学院 機械知能工学講究 I 、機械知能工学セミナー I 、インテリジェント材料、機械知能工学特別演習 I 、機械知能工学特別演習 II
学部 基礎ゼミナール、機械材料学、メカトロニクス、インターンシップ、
機械システム設計製図 I 、機械知能工学演習 I 、機械知能工学演習 II 、
卒業研究
専門分野 薄膜工学、材料物性
研究内容 形状記憶合金薄膜マイクロアクチュエータの開発、反応性スパッタリング法による窒化物薄膜作製プロセスの制御
所属学会
  • 精密工学会
  • 応用物理学会
  • 金属学会
  • American Vacuum Society
    		•
    最近の研究業績
    1. Fatigue Life Evaluation for Single- and Poly-Crystalline Silicon Films by Pulsating-Tension Cyclic Loading Test: Y. Nagai, T. Namazu, and S. Inoue, Surface and Interface Analysis, 40, 993-997, (2008).
    2. 非平衡スパッタリング法によるTi-Ni形状記憶合金薄膜の作製とその通電加熱に伴う形状記憶挙動: 井上尚三, 生津資大, 小寺澤啓司, 真空, 51(5), 312-315, (2008).
    3. Cylindrical Film Deposition System for Three-Dimensional Titanium-Nickel Shape Memory Alloy Microstructure: M. Komatsubara, T. Namazu, H. Nagasawa, T. Tsurui, and S. Inoue, Vacuum, 83(3), 703-707, (2009).
    4. Effect of Zr Content on The Mechanical Properties of Ti-Ni-Zr Shape Memory Alloy Films Prepared by dc Magnetron Sputtering: S. Inoue, N. Sawada, and T. Namazu, Vacuum, 83(3), 664-667, (2009).
    5. Shape Memory Behavior of Ti-Ni-X (X= Pd, Cu) Ternary Alloy Thin Films Prepared by Triple-Source DC Magnetron Sputtering: S. Inoue, K. Hori, N. Sawada, N. Nakamoto and T. Namazu, Materials Science Forum, 638-642, 2068-2073 (2010).
    6. Effect of Cu content on the shape memory behavior of Ti-Ni-Cu alloy thin films prepared by triple-source dc magnetron sputtering: K. Hori, T. Namazu and S. Inoue, Thin Solid Films, 518, S26-S28 (2010).
    7. Titanium-Nickel Shape Memory Alloy Spring Actuator for Forward-Looking Active Catheter: T. Namazu, M. Komatsubara, H. Nagasawa, T. Miki, T. Tsurui, and S. Inoue, Journal of Metallurgy, 685429, (2011).
    8. Tensile Elongation Measurement Device with in-Plane Bimorph Actuation Mechanism: T. Namazu, H. Fujii, and S. Inoue, Journal of Nanoscience and Nanotechnology, 11, 2777-2784, (2011).
    9. Effect of Substrate Temperature on the Shape Memory Behavior of Ti-Ni-Cu Ternary Alloy Sputtered Films: S. Inoue, K. Morino, K. Yoshiki and T. Namazu, Materials Science Forum, 706-709, 1903-1908 (2012).
    10. NEXAFS法を用いたスパッタリングc-BN薄膜の評価: 新部正人, 小高拓也, 堀聡子, 井上尚三, Ｘ線分析の進歩, 43, 153-160 (1212).

    ■研究の詳細については、こちらをご覧ください。
    ⇒材料知能設計研究グループホームページへ

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